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　　1.采用高純氧化鋁作為爐膛材料，減小能量損失。

 

　　2.爐管采用單端封口設(shè)計(jì)，頂端安裝有不銹鋼金屬法蘭，實(shí)驗(yàn)可在真空和氣氛條件下完成。

 

　　操作方式

 

　　針對(duì)實(shí)驗(yàn)室的使用要求，裝卸料采用間歇式手動(dòng)裝、卸料。裝料時(shí)將料盒放置在料盆支架上，打開(kāi)并取出爐管一端的密封端蓋，放入帶料盒的料盒支架，再將密封端蓋安裝在爐管法蘭上并擰緊卡箍螺栓。然后通入工藝氣氛，直到爐管內(nèi)氧含量達(dá)到工藝要求時(shí)進(jìn)行升溫?zé)Y(jié)。產(chǎn)品燒結(jié)工藝完成后，應(yīng)繼續(xù)通人小量的工藝氣氛并進(jìn)行降溫，直到爐內(nèi)溫度低于工藝要求時(shí)，方可打開(kāi)爐管密封端蓋取出產(chǎn)品。

 

　　立式管式爐的氣體流量控制系統(tǒng)。通過(guò)浮子或質(zhì)量流量控制器調(diào)節(jié)進(jìn)氣量，以滿足用戶(hù)在不同反應(yīng)氣氛或保護(hù)氣氛條件下的實(shí)驗(yàn)要求。

 

　　組成的CVD系統(tǒng)主要應(yīng)用在新型材料測(cè)試，氧化鋅納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、熒光粉材料、金屬材料、半導(dǎo)體材料、陶瓷材料、電化學(xué)、薄膜材料、石墨烯、碳納米管、納米線等領(lǐng)域。產(chǎn)品外觀美觀，使用方便。

 

　　適用范圍：

 

　　立式管式氣氛爐主要應(yīng)用于院校實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴(kuò)散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。