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　　本產(chǎn)品不僅可應用于氧化石墨在快速高溫下裂解制備石墨烯的工藝工程，還可應用于改性石墨熱處理制備膨脹石墨等專業(yè)領域

 

　　此儀器為用戶提供快速高溫、真空、可控氣氛的實驗環(huán)境，產(chǎn)品加熱元件采用紅外燈管，升溫速度快，節(jié)省時間。滑動法蘭和石英支架結(jié)構(gòu)，方便式樣的裝載和卸載。循環(huán)水冷法蘭密封，可在熱處理工程中保證真空條件和氣氛保護，防止氧化發(fā)生。

 

　　CVD石墨烯制備雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa

 

　　當爐體溫度高于1000℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態(tài)進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊

 

　　石英管的長時間使用溫度＜1100℃

 

　　對于樣品加熱的實驗，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）。

 

　　產(chǎn)品特點：

 

　　1控制電路選用模糊PID程控技術(shù)，該技術(shù)控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。

 

　　2氣路快速連接法蘭結(jié)構(gòu)采用本公司*的知識產(chǎn)權(quán)設計,提高操作便捷性。

 

　　3中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統(tǒng)采用高壓強，耐沖擊分子泵

 

　　防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統(tǒng)使用壽命。